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研磨抛光液残留清洗剂方案

化学机械抛光液（CMP）是近年来处于前端的研磨抛光方式，大致有二氧化硅抛光液，氧化铈抛光液，氧化铝抛光液等等常见材料。当金属材料抛光至镜面效果时，抛光液在物理和化学同时作用下，在基材上面形成顽固的固体残留物。尤其是使用纳米二氧化硅（硅溶胶）抛光过的铝合金高光镜面，在抛光液干涸在基材表面，已经是业界头等清洗难题。远岸金属清洗剂，用水性分散原理，解决行业抛光液残留的棘手问题。